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產(chǎn)品展示/ Product display

  • XMD2000石墨烯水性漿料研磨分散機(jī)

    石墨烯水性漿料研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布更窄。

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    2023-11-13

    廠(chǎng)商性質(zhì)

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  • XMD2000聚氨酯碳納米管研磨分散機(jī)

    聚氨酯碳納米管研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000納米光觸媒二氧化鈦分散機(jī)

    納米光觸媒二氧化鈦分散機(jī)不斷地從徑向高速射出，在物料本身和容器壁的阻力下改變流向，與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下，又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán)，完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000氣硅光油高剪切研磨分散機(jī)

    氣硅光油高剪切研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出，在物料本身和容器壁的阻力下改變流向，與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下，又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán)，完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)

    阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出，在物料本身和容器壁的阻力下改變流向，與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下，又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán)，完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000納米氧化鉍高剪切分散機(jī)

    納米氧化鉍高剪切分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布更窄。

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  • XRS2000生物農(nóng)藥高剪切研磨分散機(jī)

    生物農(nóng)藥高剪切研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出，在物料本身和容器壁的阻力下改變流向，與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下，又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán)，完成分散過(guò)程。

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  • XRS2000復(fù)合碳材料高剪切分散機(jī)

    復(fù)合碳材料高剪切分散機(jī)研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布更窄。

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